IonLAB:离子注入技术和处理

微粒的微促进剂产生高能离子束,能够穿透材料表面并增强其性能而无需任何涂层。穿透深度可达10微米,治疗效果仍可测量至1毫米。根据注入离子的性质和工艺参数,您可以获得化学改性,掺杂效应,表面非晶化,再合金化或纳米结构化。零件温度不超过80°C:冷冶金。该技术可能与其他低压技术(如PVD和PECVD工艺)相结合,以获得更多突破性特性。

离子微加速器的设计特别适用于工业规模的处理,避免了众所周知的障碍和这些过程的问题。效率,可靠性,简单性和灵活性是开发过程中的关键词。该系统主要由颗粒微加速器和真空室(10-3毫巴)组成。工业生产线的整体设计适合我们的工程师应用:连续或批量生产; 额外的等离子源; 用于大型表面处理的扫描光束; 适用于平面,松散部件或3D复杂形状; 等等。

主要工艺优势:

  • 低温表面处理:保留散装材料的初始性能
  • 无涂层:由于材料本身的深度被修改,因此不可能发生分层
  • 零件几何形状受到尊重:没有加工恢复
  • 精确和局部的表面处理:优化了工艺时间和最终技术性能
  • 不需要导电性:可以处理任何绝缘材料
  • 环保干燥工艺

低于第一条平板基板处理工业线,旁边是Ionlab研发设备。由于WalIbeam项目以及瓦隆地区和欧洲的支持,计划在2019年建造新的3D零件,松散零件和卷材处理工业设施。

在表面性能中,我们可以提到增加的电阻和硬度,更低的摩擦系数,更高的透明度,增强的耐腐蚀性,导电性。经处理的材料有金属,陶瓷,聚合物和弹性体,玻璃,蓝宝石,金属陶瓷等。